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            • EC400蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

              1.EC400是一臺(tái)高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測(cè)儀、樣品臺(tái)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

              訪問次數(shù):2715
              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
              更新日期:2024-12-06
            • EC400蒸發(fā)鍍膜機(jī)

              1.EC400是一臺(tái)高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。 2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測(cè)儀、樣品臺(tái)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。 3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

              訪問次數(shù):2473
              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
              更新日期:2024-10-16
            • EC400熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

              1.EC400是一臺(tái)高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測(cè)儀、樣品臺(tái)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

              訪問次數(shù):2591
              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
              更新日期:2024-12-06
            • MS450磁控濺射鍍膜設(shè)備

              1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

              訪問次數(shù):2112
              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
              更新日期:2024-12-06
            • MS450多功能鍍膜設(shè)備

              1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

              訪問次數(shù):3490
              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
              更新日期:2024-10-16
            • MS450鈣鈦礦鍍膜設(shè)備

              1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

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              產(chǎn)品價(jià)格:面議
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              更新日期:2024-10-16
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