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            當前位置:首頁   >  產品中心  >    >  鍍膜機  >  MS450鍍膜設備

            鍍膜設備

            簡要描述:1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
            2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
            3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

            • 所在城市:無錫市
            • 廠商性質:生產廠家
            • 更新日期:2024-10-16
            • 訪  問  量:687

            詳細介紹

            品牌LEBO/雷博
              1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備
             
              2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
             
              3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。
             
              4.主要用途:
             
              1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
             
              2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等,例:銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
             
              3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
             
              5.應用領域:
             
              1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產品等。
             
              2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
             
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