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            當前位置:首頁  >  技術文章

            • 2023

              11-21

              自動顯影勻膠機是一種精密的光刻設備,廣泛應用于微電子制造、納米材料制備、生物醫(yī)學等領域。其優(yōu)勢和特點主要體現(xiàn)在以下幾個方面:自動化程度高:自動顯影勻膠機采用了先進的自動化技術,能夠實現(xiàn)自動上下料、自動顯影、自動清洗等功能,大大提高了生產效率和精度。精度高:該設備采用了精密的機械系統(tǒng)和先進的控制算法,能夠實現(xiàn)高精度的薄膜制備和顯影過程,有利于制備出更加精細的薄膜結構。適應性強:自動顯影勻膠機適用于各種基底材料和薄膜材料的制備,如硅片、玻璃、金屬等,能夠滿足不同領域的需求。效率高...

            • 2023

              11-20

              控溫電解雙噴儀是一種用于實驗室和工業(yè)應用的設備,用于電解液體樣品并控制溫度的裝置。其主要組成部分包括:1、電解槽:電解槽是一個容納電解液的容器,通常由耐腐蝕材料制成,如玻璃、陶瓷或特殊合金。電解槽具有適當的尺寸和形狀,以容納電極和樣品,并確保有效的電解過程。2、電極系統(tǒng):控溫電解雙噴儀使用兩個電極,即陽極和陰極。陽極和陰極通常由惰性材料制成,如鉑、鈦或不銹鋼,以確保化學反應在電極表面進行而不被電極材料干擾。3、噴嘴系統(tǒng):噴嘴系統(tǒng)是關鍵組成部分,用于將電解液從電解槽中噴射出來。...

            • 2023

              11-9

              電解雙噴原理電解雙噴是一種常見的TEM樣品制備方法,通常用于金屬等導電樣品的制備。它的基本原理是在低溫環(huán)境下,金屬試樣被電解、拋光,形成中間穿孔并附帶大面積薄區(qū)的TEM樣品。TJ100-SE標準型電解雙噴儀(雷博科儀)TJ100-SE標準型電解雙噴儀(優(yōu)點)●自壓式液氮冷卻系統(tǒng),快速冷卻電解液。●采用同軸光導控制,對中性好、使用過程無需調整、操作方便。●一對同軸光導封裝在噴管中,操作過程不會被折斷,能屏蔽外界光源的影響。●樣品夾采用雙斜面壓緊方式,既適用于裝Φ3mm圓...

            • 2023

              11-7

              加熱紫外清洗機是一種常用于實驗室和工業(yè)生產的設備,它結合了加熱和紫外光的功能,可以高效地清洗和消毒各種表面。使用時,需要根據具體的操作說明和安全指導進行操作,確保正確使用和防止意外。加熱紫外清洗機的操作步驟:1、準備工作:確保清洗機的電源線連接正常,并且清洗區(qū)域沒有人員或動物。2、裝載樣品:將要清洗的樣品放入清洗機的樣品室內,注意不要超過樣品室的最大容量。3、設置參數:根據需要,設置清洗機的加熱溫度、紫外光強度和清洗時間等參數。4、開始清洗:按下啟動按鈕,清洗機開始工作。在清...

            • 2023

              10-31

              UM10超薄切片機超薄切片機是江蘇雷博科學儀器有限公司(以下簡稱“雷博科儀”)在2019年立項自主研發(fā)的一款電鏡制樣的設備,主要應用于生物類、高分子、無機非金屬、金屬等材料的切片。在雷博科儀研發(fā)團隊不懈的技術探索下,2022年10月,UM10超薄切片機完成了樣機的問世,并順利通過浙江大學超半年以上的使用測試,測試結果比肩進口設備水平,得到了行業(yè)內專家的高度肯定。UM10超薄切片機的問世,打破此前超薄切片機嚴重依賴進口的尷尬局面(價格高昂、售后周期長、影響科研進度)。UM10切...

            • 2023

              10-27

              等離子清洗機的操作與維護指南包括以下步驟:操作步驟:正確設置等離子設備的運行參數,按照設備使用說明書執(zhí)行。保護好等離子體的點火裝置,確保等離子清洗機可以正常啟動。在啟動前的準備工作時,需要對相關的人員進行培訓,確保操作等離子清洗機的人員可以按照要求嚴格執(zhí)行各項操作。在一次風管沒有通風的時候,等離子體的發(fā)生器運行時間不能超過設備說明書上面要求的時間,防止燒壞燃燒器造成不必要的損失。維護步驟:真空腔和真空發(fā)生系統(tǒng)的維護。如連續(xù)使用一個月后,用清潔布(紙)用酒精清洗所有電極板和腔壁...

            • 2023

              10-27

              等離子清洗機等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。等離子電源頻率一般有三種:40kHz及以下,13.56MHz,2.45GHz40kHz及以下為中頻電源,中頻等離子體發(fā)生的反應為物理反應。中頻等離子體(物理)清洗工藝是在反應腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗;氬氣本身是惰性氣體,等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應...

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